投资及消息资讯

拓荆公司自立研制的国际首台12英寸PEALD设备经由过程客户验收

拓荆科技
2021-6-21
1179

        20189月尾,由沈阳拓荆科技无限公司自立研制的12英寸原子层堆积(Atomic Layer DepositionALD)设备FT-300T经由过程了客户的验收。

        ALD设备是集成电路制备过程中关头的薄膜堆积设备,被视为进步前辈半导体工艺手艺成长的关头关键之一。拓荆公司基于已经由过程出产考证的高产能PECVD设备平台,胜利研制了国际首台量产型12英寸ALD设备FT-300T,并敏捷推向市场,可利用于28nm以下极大范围集成电路,OLED及进步前辈封装(TSV)范畴,投入28/14nm进步前辈出产线,用于堆积SiO2SiNx等绝缘薄膜。该设备已胜利进入试出产线查核考证,用时3个多月,经由过程了客户的查核验收,设备各项机能目标均知足请求,且到达或跨越了国际同类产物的进步前辈程度,这是我国在完成半导体高端设备国产化过程中的又一严重冲破。


  • 微信公家号
COPYRIGHT 2021 拓荆科技股分无限公司 All RIGHTS RESERVED. 手艺撑持:优诺科技